В конце 2026 года ожидается сдача первой российской литографической установки для производства чипов по технологии 350 нм. Эта установка предназначена для производства электронных компонентов, используемых в различных отраслях промышленности, включая автомобильную и силовую электронику. Разработчиками установки выступают Зеленоградский нанотехнологический центр и белорусская компания «Планар».
Установка способна обрабатывать пластины диаметром до 200 мм и имеет производительность 63 пластины на 150 мм или 43 пластины на 200 мм в час. Стоимость базовой конфигурации составляет 392 млн рублей без учета НДС, а версия с расширенным сервисом и гарантией в течение пяти лет обойдется в 561 млн рублей, что на 60% дешевле зарубежных аналогов.
Первый экземпляр установки будет отгружен компании «Маппер», входящей в холдинг «Швабе», а второй экземпляр достанется фирме «Отраслевые решения» из ГК «Элемент». На производство одной установки уходит около 18 месяцев с момента внесения 50-процентной предоплаты.
Разработка отечественных литографов продолжится, и следующим шагом станет создание серийного литографа под нормы 130 нм. Прототип установки был продемонстрирован в августе 2026 года, а запуск в серию 130-нанометровых установок планируется в 2027 году. Затраты на опытно-конструкторские работы оцениваются в 5,7 млрд рублей.
